設(shè)備結(jié)構(gòu) | 箱式立式前開門。(內(nèi)腔尺寸,中21 00mm × 1 700mm); |
烘烤蕞高溫度 | 350 °C; |
常用溫度 | 室溫- 300 °C |
真空系統(tǒng)配置 | 主泵由分子泵(低溫泵)、擴(kuò)散泵+前級(jí)泵及氣動(dòng)閥門等 |
空載極限真空度 | 3.0 X 10-4 Pa; |
工作真空度 | 系統(tǒng)暴露大氣后恢復(fù)真空度4× 10-3Pa,小于15分鐘 |
蒸發(fā)源槍 | E型單槍或雙槍,電阻蒸發(fā)源 |
離子源 | 霍爾離子源或考夫曼離子源由用戶選配 |
深冷捕集裝置 | 12P、15P可以選擇,蕞低溫度可達(dá)一135°C; |
保護(hù)裝置 | 門上配備高壓保護(hù)裝置(防止漏電)以及開門限位裝置 |
膜層控制儀 | 美國INFICON公司石英晶體控制儀sQC310單探頭(原裝進(jìn)口) |
其他 | 配1 9寸工控機(jī)帶觸摸帶斷電記憶,可實(shí)現(xiàn)真空系統(tǒng)自動(dòng)及鍍膜連續(xù)自動(dòng)控制。 |
設(shè)備專門為精密光學(xué)薄膜器件鍍膜生產(chǎn)而設(shè)計(jì),各系統(tǒng)單元不n總體結(jié)構(gòu)很好地滿足了光學(xué)薄膜生產(chǎn)工藝的要求,適用于AR、AF、帶通膜和截止膜等各種膜系的鍍膜。膜厚控制系統(tǒng)、性能優(yōu)良的電子槍、自動(dòng)化程度極高的鍍膜控制系統(tǒng)等,是光學(xué)薄膜的理想鍍制設(shè)備。